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Intel,蘭AMSLの450mmウェハ露光とEUV露光の技術開発促進を支援
インテル コーポレーションとAMSL 次世代半導体製造の中核技術の開発促進で合意 | |||
配信元 | Intel | 配信日 | 2012/07/11 |
<以下,メーカー発表文の内容をそのまま掲載しています>
次世代半導体製造の中核技術の開発促進で合意
ニュース・ハイライト
- インテルはASMLの研究開発プログラムに対して8億2,900万ユーロ(約10億ドル)の提供を確約し、450 ミリメートル(mm)・ウエハーと EUV(Extreme Ultra Violet:極紫外線)露光の開発を約2年前倒しするよう支援
- ASMLが同社の顧客を対象に最大 25%の小規模投資を行うプログラムの一環として、インテルは、まず ASML の発行済み株式の10%を 17 億ユーロ(約21億ドル)で購入、その後に5%の発行済み株式の追加購入を確約
- 両社間で合意した研究開発資金と株式投資の合計額は33億ユーロ(約41億ドル)
- 露光分野への継続的な研究開発は半導体産業の長期的な成長に不可欠
インテル コーポレーション(本社:米国カリフォルニア州サンタクララ)は、ASML Holding N.V.(本社:オランダ フェルトホーフェン)と、450mmウエハー技術とEUV(Extreme Ultra Violet:極紫外線)露光の開発促進に向け、ASMLに総額33億ユーロ(約41億ドル)の支援を行うことで合意したと発表しました。今回の目的は、これらの技術を採用した露光装置の導入スケジュールを最大で2年、前倒しすることにあり、今回の支援により半導体メーカーは大幅なコスト削減と生産性向上を図ることができます。
インテルはこの実現に向け、ASMLが開設した複数の企業から成る開発プログラムに参画し、ASMLが行う関連技術の研究開発活動への資金提供とASMLへの株式投資により、財政面でASMLを支援します。このプログラムの第一段階として、インテルは、ASMLの450mm ウエハー製造装置の開発と納入の早期実現を支援するため5億5,300万ユーロ(約6億8,000万米ドル)の研究開発資金を提供するとともに、ASML の発行済み株式の約 10%に相当する 17 億ユーロ(約 21 億ドル)の株式投資を行います。インテルはこの研究開発投資を、研究開発費と将来の装置購入に対する前払金として計上する予定です。
プログラムの第二段階では、ASMLの株主の承認が求められます。第二段階でインテルは、EUV の早期実現に重点を置き、ASMLに2億7,600万ユーロ(約 3 億 4,000 万ドル)の研究開発資金を追加提供するとともに、ASML の発行済み株式の5%を追加取得するため8億3,800 万ユーロ(約10億ドル)の株式投資を行います。
これにより、インテルはASMLの発行済み株式を合計で15%保有することになり、株式投資の総額は25億ユーロ(約31億ドル)になります。また、今回の合意内容の一部として、インテルはASMLの450mmウエハーと EUV の開発・製造装置に対して前払いの発注契約を結んでいます。
第一段階、第二段階ともに、規制当局の承認を含めた通常の完了条件が求められます。両社では、第一段階、第二段階の手続きは、第 3 四半期の株主投票の後に完了すると見込んでいます。
合意内容の概要
Intel公式サイト
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